電子光學用的EDI超純水設備采用的是電滲析技術和離子交換技術融為一體的連續電除鹽技術，其工作的原理是通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，實現水中離子的定向遷移，最后達到水的深度凈化除鹽。對于電子光學行業也就是生活中常見的半導體設備加工時用到的集成電路芯片、電子試劑用水、電子管涂敷配液用水、封裝用水、液晶顯示器屏面清洗用水、光學鏡片清洗用水、微電子工業、微電子工業以及各種電子器件的生產用水對于水質的要求高，下面來了解一下關于：電子光學用的EDI超純水設備。

　　離子交換樹脂通過水電解是可以實現連續再生，在水電解的過程中產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生，而且在設備制水的整個過程中都是不需要加入任何的堿、酸化學藥品再生。

　　電子光學用的EDI超純水設備的出水水質需達到：

　　1、企業的對于設備的出水水質要求;

　　2、電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規范(GB50062-1992);

　　3、工業與民用電力裝置的接地設計規范(GBJ65-1983);

　　4、GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時間;

　　根據企業對不同的行業其用水的電阻率要求是不一樣的，慧聰源環保采用的是雙級反滲透純化水處理技術+EDI模塊化設計，可制取出18.2兆的超純水，其系統的自動化程度高、操作簡便、系統工藝先進且出水水質穩定，當然該純水設備還可以制取出15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm的水質。